大家好，来看一则突发消息。

　　美光公司在华销(xiāo)售(shòu)的产品(pǐn)未通过网络(luò)安全审(shěn)查

　　据网信办(bàn)消息，日前(qián)，网络安(ān)全审查办公室(shì)依(yī)法对美光公司在华销售(shòu)产品(pǐn)进行了(le)网络(luò)安全审查。

　　审查(chá)发现，美光公(gōng)司(sī)产品存在较(jiào)严重网络安全(quán)问(wèn)题(tí)隐(yǐn)患，对我(wǒ)国关键信息基础设施(shī)供(gōng)应链造成重大(dà)安(ān)全风险，影响我(wǒ)国国家(jiā)安全。为此(cǐ)，网络安全审查办公室依(yī)法作出不予(yǔ)通过(guò)网络安全审查(chá)的结(jié)论。按照(zhào)《网(wǎng)络安全法》等法律法规，我国内关键信息(xī)基础(chǔ)设施的运营者(zhě)应停止采购美光公司(sī)产品。

　　此(cǐ)次对美(měi)光公司产品进行网(wǎng)络(luò)安全审查，目的是防范产品网络安全问题危(wēi)害国家关(guān)键信息基础设施安全，是维护国家安全的必要措(cuò)施(shī)。中国坚定推进高水(shuǐ)平对(duì)外开放，只要(yào)遵守中国法(fǎ)律(lǜ)法规(guī)要求，欢迎各国企(qǐ)业、各(gè)类平台产(chǎn)品服务进(jìn)入中国市场。

　　3月31日，中国网信(xìn)网发文(wén)称，为保障关键信息基础(chǔ)设施供应(yīng)链安全(quán)，防范产品问(wèn)题隐患造成网络安全风险，维护(hù)国家安全，依据《中华人民共和国国家安(ān)全法》《中华人(rén)民共和国网络安(ān)全(quán)法》，网络(luò)安全审(shěn)查办公室按(àn)照《网络安全审查办法》，对美光公司（Micron）在(zài)华销售的产品(pǐn)实施(shī)网络安全审(shěn)查。

　　美(měi)光是(shì)美(měi)国的存储芯片(piàn)行业龙头(tóu)，也是全球存储芯片(piàn)巨(jù)头之一，2022年收入来(lái)自中国市场收入从(cóng)此前高峰57％降至2022年约11％。根据(jù)市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计(jì)，2021 年三星电子、 铠侠(xiá)、西部数(shù)据、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 N十指不沾阳春水下一句是什么，十指不沾阳春水是什么意思AND Flash （闪(shǎn)存(cún)）市(shì)场份额约为(wèi) 96.76％，三星(xīng)电子(zi)、 SK 海力(lì)士、美光在(zài)全(quán)球 DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公(gōng)司中，江波龙、佰维存(cún)储等公司披露过美光等国际存储厂商(shāng)为公司供应商。

　　美光在江波龙采购(gòu)占比已经显著下降，至少已(yǐ)经不是主要(yào)大(dà)供应商(shāng)。

　　公告显示(shì)， 2021年美光位列江波龙第(dì)一(yī)大存储晶圆供应商，采购(gòu)约31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年(nián)，江波(bō)龙第一大(dà)、第二大和第三大供应商采购金额占比(bǐ)分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙(lóng)已经在(zài)存储产业(yè)链上(shàng)下游(yóu)建立国内(nèi)外广泛合作(zuò)。2022年年报(bào)显示(shì)，江(jiāng)波龙与三(sān)星、美光、西部数据等(děng)主要存储晶圆原厂签(qiān)署了长期合约，确保(bǎo)存(cún)储晶圆供应的稳定(dìng)性(xìng)，巩固公司在下(xià)游(yóu)市场(chǎng)的(de)供应(yīng)优势，公司(sī)也与国(guó)内国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫保持良好的(de)合作。

　　有(yǒu)券商此前就(jiù)分析，如(rú)果美(měi)光在中国区销售受到限制，或将(jiāng)导致(zhì)下(xià)游客户(hù)转而采购国外(wài)三星、 SK海力士，国(guó)内长江存储(chǔ)、长鑫存(cún)储等竞对产(chǎn)品

　　分析(xī)称，长(zhǎng)存、长鑫(xīn)的上游设(shè)备厂(chǎng)或从(cóng)中(zhōng)受益。存储器的生产(chǎn)已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在已经进(jìn)入3D NAND时(shí)代，2 维到(dào)3维的结构(gòu)转变使刻(kè)蚀和(hé)薄膜成为最关键、最(zuì)大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均需要经(jīng)过薄膜(mó)沉积工艺步骤，同时刻蚀(shí)目前前沿要刻(kè)到 60：1的深孔，未来可能会更深的(de)孔或者沟槽，催生更多设备(bèi)需求。据(jù)东京电(diàn)子披露，薄膜沉(chén)积设(shè)备(bèi)及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资(zī)本(běn)开支合计为75％。自长(zhǎng)江(jiāng)存(cún)储被(bèi)加入(rù)美国限制名单，设(shè)备(bèi)国产(chǎn)化(huà)进(jìn)程十指不沾阳春水下一句是什么，十指不沾阳春水是什么意思(chéng)加速，看(kàn)好拓荆科(kē)技（薄膜沉积）等相关(guān)公司份额提升，以(yǐ)及存储业务占比较高的华海清科（CMP）、盛(shèng)美上海(hǎi)（清洗）等收入增长(zhǎng)。

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